薄膜制備設備
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OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL帶有預熱系統的滑動PECVD -
OTF-1500X-III-4CV-PE-SL三溫區1500℃ PECVD系統 -
OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE1200℃等離子增強小型PECVD回轉爐系統 -
OTF-1200X-4-NW生長納米線的CVD爐 -
OTF-1200X-S-II-4CV-PE1200℃等離子增強HPCVD回轉爐系統 -
TF-1200X-PESDFG-50雙爐體滑動PECVD系統＆循環手套箱 -
OTF-1200X-III-R5-PECVD1200℃5英寸三溫區等離子增強粉體回轉爐系統 -
OTF-1200X-II-PEC41200℃等離子增強HPCVD回轉爐系統 -
OTF-1200X-II-PE-RRW等離子增強卷對卷線材連續制備系統 -
OTF-1200X-II-PE-RR卷對卷石墨烯制備管式爐系統 -
OTF-1200X-II-4CV-PE-SL-UL滑動式雙溫區PECVD系統 -
OTF-1200X-50-PE-SL小型滑動PECVD管式爐系統 -
OTF-1200X-50-4CLV-PE4路質子混氣管式PECVD系統 -
OTF-1200X-50S-PE小型PECVD管式爐系統 -
OTF-1200X-III-HVC1200°C三溫區二通道混氣高真空CVD系統 -
OTF-1200X-HVC1200°C二通道混氣高真空CVD系統 -
OTF-1200X-4-III-9HV1200°C三溫區九通道混氣高真空CVD系統 -
GSL-1700X-HVC91700°C九通道混氣高真空CVD系統 -
GSL-1700X-HVC1700°C二通道混氣高真空CVD系統 -
OTF-1200X-5-III-SF1200℃三溫區CVD系統 -
OTF-1200X-S25-II-SL1200℃1英寸雙溫區管式爐CVD系統 -
OTF-1200X-80-II-F3LV1200℃雙溫區開啟式真空管式爐 -
OTF-1200X-80-I-F3LV1200℃單溫區三通道混氣CVD系統 -
OTF-1200X-S50-2F1200℃微型二通道混氣CVD系統 -
GSL-1700X-F3LV1700℃單溫區三通道混氣CVD系統 -
GSL-1700X-III-F3LV1700℃三溫區三通道混氣CVD系統 -
OTF-1200X-80-III-F3LV1200℃三溫區三通道混氣CVD系統 -
VTC-100PA（加熱型）真空旋轉涂膜機
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