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OTF-1200X-50-4CLV-PE 4路質子混氣管式PECVD系統

應用范圍：為使化學反應能在較低的溫度下進行，常利用等離子體的活性來促進反應，這種方法稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）。加熱爐設備的內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層，可提高設備的加熱效率，同時也可延長設備的使用壽命。

產品型號：OTF-1200X-50-4CLV-PE

上架時間：2020-03-10

安裝尺寸：2080mm*700mm*1520mm

A^-A⁺

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為使化學反應能在較低的溫度下進行，常利用等離子體的活性來促進反應，這種方法稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）。加熱爐設備的內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層，可提高設備的加熱效率，同時也可延長設備的使用壽命。

性能指標和基本配置
設備名稱	4路質子混氣管式PECVD系統—OTF-1200X-50-4CLV-PE
外形尺寸	長寬高 2080mm700mm1520mm
爐管規格	外徑: 100mm 內徑: 96mm×長: 1800 mm
加熱爐主要參數	● 最高溫度: 1200℃ ● 額定工作溫度: 1100℃ ● 推薦升溫速率:≤10℃/min ● 加熱區長度: L總：440mm（雙溫區包括隔環）溫區一：200mm 溫區二：200mm ● 加熱爐額定功率：3KW ● 滑動方式：電動控制 ● 滑動最大行程：600mm ● 電壓：單相AC 208 - 240V, 50HZ
溫控系統	● 歐陸EPC3000儀表 ● 模糊PID控制和自整定調節功能 ● 智能化24段可編程控制 ● 帶過電流過電壓保護漏電保護 ● 電氣元件及電纜，冷壓端子均符合UL認證標準 ● 控溫精度: ±0.1℃ ● 控溫：K型熱電偶兩根 ● 通訊協議：modbus RTU
軟件控制	● 可視化運行狀態監控 ● 溫控系統，氣路系統，真空系統，射頻系統，滑動爐體，開合爐體，壓力控制，全自動化， ● 數據記錄、過程記錄集成一體 ● 預制工作流程，一鍵自動運行 ● 具有恒壓功能，可以設定氣體流量和恒定壓力 ● 壓力控制：采用TRP-12（抽速3L/s）的雙旋真空泵，在總進氣量為100-150sccm，管內壓力為 100-130pa，如總進氣量高于150sccm時，請更換抽速更高的泵，測試為總進氣量為1L/min（滿足四路質量流量計全開狀態時），使用VRD-60泵（抽速18L/s），最高真空為120-130pa（滿足起輝條件）,可在任意供氣量下設定任意氣壓值（該氣壓值需大于搭配泵體的最大真空值），氣壓值可自動穩定
新式快捷法蘭	可方便快速取放物料
射頻電源	● 500W射頻電源 ● 0--500W可調（穩定性±1%） ● 射頻頻率：13.56MHZ ● 自動匹配風冷 ● 噪音＜50dB ● 輸入電壓：AC108-250V
供氣系統	● 四通道質子流量計控制系統可實現氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%） ● 流量范圍：一路0-100 sccm 二路0-200 sccm 三路0-200 sccm 四路0-500 sccm 注：接入供氣系統的氣源需搭配減壓閥，將氣壓降至2mpa以下
真空系統	● 搭配TRP-12的雙旋真空泵（抽速3L/s）（總進氣量小于150sccm，該泵可以達到等離子發生真空度） ● 搭配TRP-60雙旋真空泵（抽速10L/s）（總進氣量1L/min，該泵可以達到等離子發生真空度） ● KF25卡箍及波紋管用于連接法蘭與真空泵 ● 真空度可達10-2Torr
備注	注：采用氬氣高于射頻功率200w情況下，需特殊說明，設備需要特殊改造及測試，（有法蘭過熱情況）

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OTF-1200X-50-4CLV-PE 4路質子混氣管式PECVD（英文版操作

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