薄膜制備設備
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VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀 -
VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀 -
VTC-16-D小型三靶等離子濺射儀 -
VTC-16-3HD小型三靶等離子濺射儀 -
VTC-3RF三靶射頻磁控濺射鍍膜儀 -
OTF-1200X-4-C4LVS1100℃雙管滑動快速加熱冷卻爐 -
OTF-1200X-80SL1200℃單溫區滑軌爐 -
OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發鍍膜爐 -
OTF-1200X-RTP-II3英寸近距離蒸發鍍膜儀爐 -
GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發鍍膜儀 -
OTF-1200X-RTP-II-5-R5英寸近距離旋轉蒸發鍍膜爐 -
PPM級雙柱惰性氣體凈化器 -
PF-02-PPM可再生脫氧管 -
PF-2大容量（5CF）容積式自動進料器 -
PF-1S容積式自動進料器 -
LPG-5實驗型離心霧化干燥機 -
BK-380-2多通道精密蠕動泵 -
300S-P-H可加熱型注射泵 -
MSK-USP-6000實驗型霧化干燥器 -
GSL-2Z-LCD-S小型二通道混氣系統 -
ZF-MFC-1C質量流量控制器 -
精密氮氣發生器 -
CGM-2F混氣系統2路浮子 -
ALD-GSL-42通道ALD控制單元 -
ALD-1200X-R-4ALD回轉爐系統 -
OTF-1200X-4-RTP-SL滑動式RTP快速退火爐 -
OTF-1200X-80-SL單管滑動快速加熱冷卻爐 -
GSL-1100X-III-D11大面積雙管石墨烯生長爐 -
OTF-1200X-5-III-D41200℃雙管三溫區 -
TF-1200X-4-C4LVS1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統 -
OTF-1200X-III-HPCVD-SE1200℃三溫區HPCVD系統 -
GSL-1100X-III-D11-81100℃雙管三溫區管式爐
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