ALD-1200X-R-4 ALD回轉爐系統
應用范圍：ALD-1200X-R-4是一款4英寸ALD旋轉管式爐系統，包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發生器以及4通道質子流量計控制系統，可利用此系統進行粉末表面的ALD和CVD包覆。該系統簡潔的設計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現ALD工藝實驗。
產品型號 ：ALD-1200X-R-4
上架時間 ：2019-07-09
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ALD-1200X--R-4是一款4英寸ALD旋轉管式爐系統，包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發生器以及4通道質子流量計控制系統，可利用此系統進行粉末表面的ALD和CVD包覆。該系統簡潔的設計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現ALD工藝實驗。
| 性能指標和基本配置 | ||
|---|---|---|
| 控制面板 |
● 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數均可通過一6英寸接觸屏由PLC進行控制。 |
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| ALD進氣閥 |
兩個ALD脈沖電磁閥（最小可在10ms完成閥門的開啟或關閉） |
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| 精密液體氣相發生器 |
精密液體氣相發生器包含在本系統中并且連接到ALD進氣閥 |
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| 旋轉管式爐 |
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| 真空計 |
公司具有多種真空機可供選 |
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| 真空泵（選配） |
公司具有多種真空泵可供選配 |
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| 更多可選配件 |
● 可選購氣液混合裝置，用于CVD系統（圖1.2） |
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| 相關應用 |
可利用ALD系統顯著降低石榴石結構固態電解質與電極之間的高的固固界面阻抗，相關文獻：Negating interfacial impedance in garnet-based solid-state Li metal batteries |
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| 應用注意事項 |
● 爐管內氣壓不可高于0.02MPa ● 由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 ● 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態 ● 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 ● 石英管的長時間使用溫度＜1100℃ ● 對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發生（如爐管破裂，法蘭飛出等） |
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| 質量認證 |
所有電器元件（＞24V）均滿足UL/MET/CSA認證/CE認證，如您另付費用，我們可保證單臺儀器通過TUV（UL61010）或CSA認證 |
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| 保修期 |
一年保修，終身技術支持。 特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。 點擊查看售后服務承諾書。 |
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