● 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請致電我公司銷售部。
● 根據所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。
● 一個旋轉開關可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環境中自動切換，不影響真空度。
● 可以安裝五種不同材料的靶材，每個靶頭可單獨設置濺射時間功率等參數，用于生長不同成分的薄膜。
● 可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。
● 可選配設備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數。

● 真空腔體采用304不銹鋼制作
● 腔體內部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (105 L)
● 鉸鏈式腔門，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口

● 5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層（圖一）
● 濺射腔體內安裝有電動擋板
● 濺射距離:濺射距離可調
● 濺射角度:濺射角度可調
● 實驗時，需要將靶材和靶材的銅墊片用導電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導電銀漿）
● 可以單獨訂購RF連接線作為備用（圖二）
● 設備需要一臺水冷機，用于靶頭冷卻（圖三）
● 原理圖請參考（圖四）

               圖1                            圖2                          圖3                              圖4

● 直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。
● 樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉，可制作16種不同組分的薄膜
● 樣品臺可以加熱，最高溫度可達600℃（根據配置不同可能會有變動，具體請咨詢銷售部）

● 安裝有KF40真空接口
● 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請點擊）
● 可在本公司選購各種真空泵

● 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
● 設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕，方便調節氣流

● 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,最大厚度3mm
● 可在本公司選購各種靶材

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

● 此設備為DIY設備，參數變化較大購買前請務必電話仔細溝通
● 為了得到較好的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
● 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
● 要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面
● 超聲波清洗（詳細參數點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。
● 等離子清洗（詳細參數點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。
● 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。

    超聲波清洗機         等離子清洗機             蒸鍍儀                    手套箱

● 注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。
● 氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
● 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶

CE認證