● 輸入電源：220V AC 50/60Hz
● 整機功率：800W（包括真空泵）
● 射頻電源最高使用功率：300W
● 靶頭數量：單個2英寸磁控濺射靶頭
● 樣品臺加熱溫度：500℃

● 采用石英腔體，尺寸：166 mm OD×150 mm ID×250 mm H
● 密封法蘭:直徑為165 mm，采用金屬制作，密封采用O形密封圈

● 該設備有兩種射頻電源可選分別為：（圖一、二）
● 300W自動匹配射頻電源
● 100W的手動匹配射頻電源

             圖1                          圖2
注意：
● 2英寸靶頭最大使用功率為300W
● 自動射頻電源的最大功率為300W，但是受靶頭限制，最大功率只能使用100W
● 自動匹配電源價格相對貴，但是操作非常方便，無需手動調節，可以節約時間
● 此設備支持多種DIY方案，購買前請務必與我公司銷售聯系，同時歡迎您帶料到科晶實驗室實驗

● 一個2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接
● 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉樣品臺，其與濺射頭之間距離可調
● 樣品臺可加熱，加熱溫度室溫-500℃
● 安裝有一可手動操作的擋板

● 安裝有KF25真空接口
● 數字真空壓力表（Pa）
● 此系統運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含）
● < 1.0E-2 Torr（采用機械泵）（參考值，詳情請點擊）
● < 1.0E-5 Torr（采用渦旋分子泵）（參考值，詳情請點擊）
● 可在本公司選購各種真空泵

● 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
● 設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕，方便調節氣流

● 靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-3) mm(厚度)
● 可在本公司選購各種靶材

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H

● 此設備有多種DIY方案可供選擇，具體請聯系銷售部
● 為了保證濺射效果，非導電靶材必須安裝銅墊塊
● 可在本公司購買單晶基片從A到Z（點擊下圖查看詳情）

本公司濺射鍍膜機在500℃已經成功將ZnO濺射在Al2O3襯底上（點擊下圖查看XRD圖譜）

● 有時為了達到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜
● 為了得到較好的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
● 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
● 要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面
● 超聲波清洗（詳細參數點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。
● 等離子清洗（詳細參數點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。
● 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。

     超聲波清洗機         等離子清洗機              蒸鍍儀                     手套箱

● 注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。
● 氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
● 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶

CE認證