● 結構緊湊、小型化的桌上型儀器
● 用各種氣體清洗和去除晶片上納米級有機污染物。
● 在制膜實驗之前預先清潔鍍膜基底的優秀工具。清洗后鍍膜的質量可以更好。
● 鉸鏈式門，方便裝樣
● 石英腔的直徑是3英寸，在里面可以放入一個石英舟，最大清洗一個2英寸的基片。
● 清洗腔里面的石英管可以拆卸，方便清洗和更換
● 使用可調射頻電源，可以設置功率為低、中、高級別；低成本、操作安全。

● 低功率設定：直流680V，10mA,6.8W;
● 中功率設定：直流700V，15mA,10.5W;
● 高功率設定：直流720V，25mA,18W;
● 射頻源輸出頻率：13.56MHz;
● 等離子直流電源：
● 輸入電壓：220V,50Hz

● 直徑75mmx長200mm的石英墻體，前蓋可以開啟。
● 高純度石英腔體，使用壽命比玻璃長。

設備標配一個數顯電阻真空機用于實時監測清洗倉內的真空度。

● 您可以訂購額外的石英腔體，用于備用。
● 如果需要一個通入兩種氣體的工藝解決方案，PDC-36G等離子清洗機可以與2路混氣系統組合（點擊下面第一張圖片了解詳情）
● 您可以訂購石英晶片載體來清潔2英寸晶片

此設備不包含真空泵。

● 多種氣體可以用于等離子清洗，例如氮氣、氬氣、空氣、混合氣體，主要取決于處理何種材料。
● 可以使用<4％的H2混合惰性氣體
● 警示：不能使用可燃性及腐蝕性氣體。

353mm（L）x380mm（W）x225mm （H）

（不含泵）8kg

等離子清洗機工作原理

CE認證