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ALD-1200X-4 雙通道ALD管式爐系統(tǒng)

應(yīng)用范圍：ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng)，包含用于原子層沉積的2個ALD進(jìn)氣閥、1個精密液體氣相發(fā)生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡潔的設(shè)計使得更多的科研院所能夠在可負(fù)擔(dān)的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。

產(chǎn)品型號：ALD-1200X-4

上架時間：2019-07-09

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ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng)，包含用于原子層沉積的2個ALD進(jìn)氣閥、1個精密液體氣相發(fā)生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡潔的設(shè)計使得更多的科研院所能夠在可負(fù)擔(dān)的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。

性能指標(biāo)和基本配置
控制面板	● 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數(shù)均可通過一6英寸接觸屏由PLC進(jìn)行控制。 ● 兩個ALD進(jìn)氣閥。 ● 請點擊下圖查看控制面板。
ALD進(jìn)氣閥	兩個ALD脈沖電磁閥（最小可在10ms完成閥門的開啟或關(guān)閉）
精密液體氣相發(fā)生器	精密液體氣相發(fā)生器包含在本系統(tǒng)中并且連接到ALD進(jìn)氣閥
雙溫區(qū)管式爐	● 連續(xù)工作的最高溫度為1100℃ ● 兩個溫區(qū)由兩個獨立的溫控系統(tǒng)來控制，而且都為PID30段程序化控溫 ● 每個加熱區(qū)長度為200mm，加熱區(qū)總長度為400mm ● 爐管兩端放置管堵時兩溫區(qū)的最大溫度差為500℃ ● 輸入電壓：208-240V AC，單向 ● 最大功率為4KW
防腐型數(shù)顯真空計	● 測量范圍：3.8x10-5 -1125 Torr ● 耐腐蝕 ● 對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復(fù)性 ● 可實現(xiàn)快速的氣體監(jiān)測，響應(yīng)時間較短 ● 易于更換插頭及傳感元件
真空泵（選配）	● 管內(nèi)真空度可達(dá)10-2Torr。 ● 真空泵不包含在本系統(tǒng)內(nèi)，如您進(jìn)行CVD實驗可點擊下圖選購無油渦旋真空泵。
混氣系統(tǒng)	● 可選購氣液混合裝置，用于CVD系統(tǒng)。 ● 可選購恒溫控制模塊。
更新觀念	您可采用ALD設(shè)備搭建等離子增強原子層沉積+化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PE-ALD+CVD）和等離子增強原子層沉積+物理氣相沉積+化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PE-ALD+PVD+CVD），用于生長各類材料 ( PE-ALD+CVD) ( PE-ALD+PVD +CVD)
應(yīng)用注意事項	● 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa ● 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 ● 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài) ● 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 ● 石英管的長時間使用溫度＜1100℃ ● 對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）
質(zhì)量認(rèn)證	所有電器元件（＞24V）均滿足UL/MET/CSA認(rèn)證/CE認(rèn)證，如您另付費用，我們可保證單臺儀器通過TUV（UL61010）或CSA認(rèn)證
保修期	一年保修，終身技術(shù)支持。特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。點擊查看售后服務(wù)承諾書。

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