應用范圍:OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內部移動的(在真空氣氛保護環境下移動)管式爐,最多可依次移動4個坩堝。特殊的坩堝推送機構,可將坩堝在爐管內推出后再拉回,讓坩堝能做往返移動。坩堝移動位置&爐體的溫度控制都采用一觸摸屏控制。此款設備可進行物理化學混合沉積(HPCVD),快速熱蒸發(RTE)等實驗,特別適合制備多層二維晶體材料。
產品型號:OTF-1200X-II-ZL
上架時間 :2019-07-26
安裝尺寸:2400L×600W×1300mm H
OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內部移動的(在真空氣氛保護環境下移動)管式爐,最多可依次移動4個坩堝。特殊的坩堝推送機構,可將坩堝在爐管內推出后再拉回,讓坩堝能做往返移動。坩堝移動位置&爐體的溫度控制都采用一觸摸屏控制。此款設備可進行物理化學混合沉積(HPCVD),快速熱蒸發(RTE)等實驗,特別適合制備多層二維晶體材料。
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