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OTF-1200X-S-HPCVD 1200℃坩堝可移動(dòng)型管式爐

應(yīng)用范圍:OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動(dòng)(靠步進(jìn)電機(jī)控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備最高工作溫度為1200℃。

產(chǎn)品型號(hào) :OTF-1200X-S-HPCVD

上架時(shí)間 :2019-07-17

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       OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動(dòng)(靠步進(jìn)電機(jī)控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備最高工作溫度為1200℃。

 性能指標(biāo)和基本配置
高溫爐部分

● 爐體設(shè)計(jì)為開啟式,以便于更換爐管
● 工作電源:208 - 240 VAC, 50/60Hz
● 最大功率為:2KW
● 最高工作溫度:1200℃(<1hr)
● 連續(xù)工作溫度:1100℃
● 加熱區(qū)長度:200mm
● 爐管:高純石英管,尺寸50mm?O.D?x?44mm?I.D?x?450mm?L)
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溫度控制系統(tǒng)

● 采用PID30段程序化控溫,其控溫精度為+/-1℃
● 設(shè)有過熱和斷偶保護(hù)
● 熱電偶采用K型熱電偶
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真空密封

● 采用KF結(jié)構(gòu)密封法蘭,硅膠密封圈密封
● 法蘭上安裝有一機(jī)械壓力表
● 右端法蘭與一個(gè)真空不銹鋼波紋管連接(不銹鋼波紋管最大伸縮幅度為150mm)
● 真空度:10-2Torr(用機(jī)械泵抽)  10-5Torr(用分子泵抽)
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坩堝移動(dòng)機(jī)構(gòu)&PLC控制

● 一個(gè)直徑為1/4"的歐米伽鎧裝熱電偶(K型),通過法蘭伸入到爐管中,并可隨坩堝移動(dòng),可實(shí)時(shí)監(jiān)測樣品的實(shí)際溫度。
● 通過步進(jìn)電機(jī)移動(dòng)爐管內(nèi)的坩堝(樣品臺(tái)),最大行程為100mm,移動(dòng)精度為1mm
● 通過觸摸屏設(shè)定坩堝一定的距離和目標(biāo)位置,坩堝移動(dòng)速度為180mm/min(更精確的移動(dòng)速度,可與本公司聯(lián)系定制,需額外收費(fèi))
● 可觀察下圖,了解坩堝與熱電偶的安裝方法
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最大加熱速率和冷卻速率

可通過移動(dòng)樣品到已預(yù)加熱的爐體中來得到最大的加熱速率,也可將樣品迅速移除高溫的爐體,來得到最大的降溫速率

             最大加熱速率:                                                         最大降溫速率
             10℃/sec (150℃ - 250℃);                                      10℃/sec (950℃ - 900℃);
              7℃/sec (250℃ - 350℃);                                        7℃/sec (900℃ - 850℃);
              4℃/sec (350℃ - 500℃);                                        4℃/sec (850℃ - 750℃);
              3℃/sec (500℃ - 550℃);                                        2℃/sec (750℃ - 600℃);
              2℃/sec (550℃ - 650℃);                                        1.5℃/sec (600℃ - 500℃);
              1℃/sec (650℃ - 800℃);                                        1℃/sec (500℃ - 400℃);
              0.5℃/sec (800℃ - 1000℃)                                     0.5℃/sec (400℃ - 300℃);
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可選配件

● 可選購手動(dòng)擋板閥
● 防腐型數(shù)顯真空計(jì)
● 快速連接法蘭,以方便于放置樣品
● 多路質(zhì)量流量計(jì)控制的混氣系統(tǒng),用于CVD和DVD實(shí)驗(yàn)
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石英氣體噴嘴

可選配石英氣體噴嘴,將反應(yīng)氣體與緩沖清洗氣體分開通入,可有效減少副反應(yīng)發(fā)生,實(shí)現(xiàn)高端CVD工藝,如局部控制前體濃度化學(xué)氣相沉積工藝(ALC CVD)或單晶二維材料薄膜的生長工藝等。
1

尺寸

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應(yīng)用

● 此款設(shè)備可用于多種實(shí)驗(yàn),以下列出了幾種實(shí)驗(yàn)方法
   RTE(快速熱蒸發(fā)):蒸發(fā)料放在坩堝中,放入到爐體中心,基片放在樣品臺(tái)上,樣品臺(tái)與熱電偶相連接,然后將樣品臺(tái)移動(dòng)到理想的位置(此位置溫度是實(shí)驗(yàn)所需要的溫度)
   HPCVD(混合物理化學(xué)沉積):與RTE相似,但需配混氣系統(tǒng),對(duì)反應(yīng)氣體混合并控制流量,同時(shí)也需設(shè)定蒸發(fā)料的位置(確定蒸發(fā)料的蒸發(fā)溫度) 

   水平布里奇曼(Bridgman)法來長晶體:將樣品和籽晶放入到坩堝中,并將坩堝放入到爐體中心位置,然后設(shè)定坩堝移動(dòng)速度,慢慢移動(dòng)坩堝。

應(yīng)用注意事項(xiàng) ● 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa
● 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全 。
● 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài)。 
● 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管的沖擊 。
● 石英管的長時(shí)間使用溫度<1100℃
● 對(duì)于樣品加熱的實(shí)驗(yàn),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)
質(zhì)量認(rèn)證

所有電器元件(>24V)都通過UL?/?MET?/?CSA認(rèn)證/ CE認(rèn)證 ,若客戶出認(rèn)證費(fèi)用,本公司保證單臺(tái)設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
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保修期 一年保修,終身技術(shù)支持。
特別提示:
1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。
點(diǎn)擊查看售后服務(wù)承諾書。
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