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UNIPOL-1000D 雙盤壓力研磨拋光機

應用范圍：UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機主要用于材料研究領域，廣泛使用于大專院校、科研院所實驗室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣、有機高分子材料、復合材料等材料樣品的自動研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機設有兩個研磨拋光工位，可以分別進行研磨、拋光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。本機采用機械加壓模式對被研磨樣品加壓，壓力施加于載物盤的中心，使整個載物盤受力均勻。通過手觸控制屏對設備進行控制，上盤可以進行順時針旋轉也可以進行逆時針旋轉，下盤作順時針旋轉，通過樣品盤的材質不同可以選擇上盤的旋轉方向。機器工作過程中噪音小，具有研磨定時功能，時間到機器自動停止，可以實現(xiàn)無人看守工作。

產品型號：UNIPOL-1000D

上架時間：2019-09-12

安裝尺寸：780mm×590mm×750mm

重量：100kg

A^-A⁺

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UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機主要用于材料研究領域，廣泛使用于大專院校、科研院所實驗室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣、有機高分子材料、復合材料等材料樣品的自動研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機設有兩個研磨拋光工位，可以分別進行研磨、拋光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。本機采用機械加壓模式對被研磨樣品加壓，壓力施加于載物盤的中心，使整個載物盤受力均勻。通過手觸控制屏對設備進行控制，上盤可以進行順時針旋轉也可以進行逆時針旋轉，下盤作順時針旋轉，通過樣品盤的材質不同可以選擇上盤的旋轉方向。機器工作過程中噪音小，具有研磨定時功能，時間到機器自動停止，可以實現(xiàn)無人看守工作。

性能指標和基本配置
安裝條件	● 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 ● 水：設備配有上水口及下水口，需自行連接自來水及排水 ● 電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 ● 氣：無。 ● 工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 ● 通風裝置：不需要
主要特點	● 設有兩個研磨拋光工位，可分別進行研磨、拋光操作。 ● 中心加載壓力，壓力穩(wěn)定可靠。 ● 性能優(yōu)良，操作簡單，適用范圍廣。
技術參數	● 電源：220V 50Hz ● 載物盤：?150mm ● 桃型孔：?25.4mm ● 磨拋盤：?250mm ● 載物盤（上盤）轉速：10rpm-80rpm（無級調速） ● 磨拋盤（下盤）轉速：50rpm-400rpm（增量調速，最小增量10） ● 壓力：0.5kg-20kg（最小增量0.5kg）
產品尺寸	780mm×590mm×750mm
產品重量	100kg
標準配件	1	鑄鋁拋光盤	2個
	2	平載物盤	1個
	3	桃型孔載物盤	1個
	4	磁力片	4片
	5	研拋底片	6片
	6	砂紙（240#、400#、800#、1500#）	各2片
	7	拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯）	各2片
	8	金剛石拋光膏（W2.5）	1支
可選配件	● SKZD-2滴料器 ● SKZD-3滴料器 ● SKZD-4自動滴料器 ● YJXZ-12攪拌循環(huán)泵 ● 精密測厚儀 ● GPC-50A精密磨拋控制儀 ● 陶瓷研磨盤 ● 玻璃研磨盤

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