● 采用高質量的不銹鋼和陶瓷材料制作
● 采用電磁場的有元計算法來設計永磁體，以得到較高的磁場強度和均強場分布
● 磁體表面涂有一層保護層，以防止冷卻水的腐蝕，延長其使用壽命
● 標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配
● 安裝是采用標準真空接頭，便于操作
● 更換靶材較為簡單，無需調整濺射頭的高度
● 配有一塊銅靶

● 濺射頭的直徑:46.3mm
● 所用靶的直徑:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
● 靶材的最大厚度: 1/8" (3mm)
● 磁環:NdFeB稀土永磁鐵
● 桿的直徑: 3/4" O.D.

● DC (最大) 250 W
● RF （最大）100 W

3A

200 - 1,000 V

● 注意：此圖是采用磁控濺射得的到一個200nm的薄膜，所用靶材為1英寸的銅靶。薄膜是沉積在氧化的硅片上，實驗參數為：
● 功率：直流150W
● 真空環境：10mTorr(Ar)
● 靶材與基片的距離：75mm

● 電路連接接頭：標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配
● 本公司會贈送一高真空快速接頭
● 此快速接頭的內徑為0.75"，可將濺射頭安裝在真空腔體上，真空腔體上的安裝孔直徑為1英寸，真空腔體的壁厚不得大于1英寸

● 濺射頭相對于桿最大可傾斜+/- 45度
● 傾斜裝置上有刻度線，可觀察到靶頭傾斜的角度

● 循環水冷機，流量為16L / min ，水箱容積為6L
● 本公司可提供各種配件可與HVMSS-SPC-1-LD配套，讓客戶自己搭建磁控濺射儀

在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜，下面是一些應用：
● 薄膜涂覆
● 半導體器件
● 磁記錄介質
● 超導薄膜
● 量子計算器件
● MEMS
● 生物傳感器
● 納米技術
● 超晶格
● 顆粒膜
● 記憶合金
● 組合薄膜沉積
● 光學薄膜